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光清洗介(jiè)紹(shào)

發(fā)布時間:2019-02-25 07:35
作者:格(gé)瑞戴西


光是一種電(diàn)磁波,具有各自的波長(zhǎng)和相應的能量。它應用於物體的清洗是近年來發展起來的,但應用麵仍比較窄,設備成本較高(gāo)。目前,應用於(yú)清洗的(de)光有激光(guāng)清洗和紫外線清洗兩種。


激光清洗

激光又稱"萊塞"(LASER),是根據英文"LightAmplificationbyStimulatedEmissionofRadiation"詞頭縮(suō)寫而成(chéng),其含義是(shì)“受激輻射產生的(de)光放大”。它是20世紀科學技術(shù)的重大發現,已(yǐ)在國民經濟各個領域尤其在光導通(tōng)信領域得到廣泛應用。近年來,激光技術(shù)也涉及到了表麵處理領域,如激光(guāng)表麵改性和激光清洗。激光清洗技術是指采用高能激(jī)光(guāng)束照射工件表(biǎo)麵(miàn),使表麵的汙物、鏽斑或塗層發(fā)生(shēng)瞬間蒸發或剝離,從而達到潔淨化的工藝過程。


1.激(jī)光清洗(xǐ)的原理(lǐ)特性

激光是在時間上和空間上高度集中的(de)光束,除了具有(yǒu)光的一(yī)般特性外,由於釆用了光學諧振腔,還具有如下特點。

a.單色性強;

b.方向性好;

c.相幹性好,激光的發散角很小,相幹麵積大,所以,空間相幹性好:

d.亮度高,按光度學,空間發光(guāng)體的亮度B的定義為

B=P/ΔΩΔS

式中:P——輻射功率;

ΔΩ——發光束(shù)的立體角;

ΔS——發光體的麵積。

如發光(guāng)功率僅為10mW的He-Ne激光,可比太陽的亮度高幾千倍,所以說激光束是能量高度集中的光束,聚焦(jiāo)後的激(jī)光可形成10⁴〜10¹⁵W/cm²功率密度(dù)的照射,並在10-¹¹s內,便可將光能轉變為熱能。

激光清洗的原理正是(shì)基於(yú)激光束的高亮度(dù)(高功率)、高方(fāng)向性並能瞬間轉化為(wéi)熱能的特(tè)性(xìng),將工件表麵的汙垢熔化或汽化(huà)而被去除,同時可在不熔化金屬的前提下把金屬表麵的氧(yǎng)化物鏽垢除去。

由於激光清洗物質、過程特點和所使用的激光(guāng)器的波長、能量密度和(hé)清洗(xǐ)方式(shì)的不同,激光清洗的機理也有(yǒu)所差別。歸納起來,激光清洗機理有如下幾種:

(1)燃燒汽化機(jī)理:對於油脂、油漆、橡膠等(děng)低燃點、易揮發的待清(qīng)洗物質而言,激光清洗的機理主要是燃燒汽化機理;

(2)熱衝擊與熱震動(dòng)誘導塗層剝落機(jī)理:對於橡膠(jiāo)、油漆甚至鐵鏽等(děng)物質(zhì),由於激光輻照產生的熱衝擊和熱震動,或者汙染物粒子發生熱膨脹,導致(zhì)待清洗物質直接剝落;

(3)激光燒蝕機理:采用高(gāo)峰值功率(lǜ)的激光束(shù)使固體物質瞬間汽化、消融而實現清洗的過程。激光燒蝕機理一般在準分子激光(guāng)、高能量密度的Nd:YAG激光清洗固體汙染物質時發生,如激光除鏽等技術。

(4)激光誘導衝擊波清洗機理:對於激光+液膜(mó)的清洗方法,當激光照射於液膜上時,液膜急劇受熱,產生爆炸性汽化,爆炸性(xìng)衝擊波使基體表麵的汙(wū)物鬆散並隨衝(chōng)擊波飛離加工(gōng)物體的表麵(miàn),達(dá)到去汙的(de)目(mù)的。這種方法也包括粒子熱膨脹、基體表麵和汙物粒子的振動,但(dàn)爆炸性(xìng)衝擊波是(shì)主要的。此種方法所用液(yè)膜一般為水膜,或為少量的甲醇或乙醇與水的混合液體,覆(fù)蓋於工件表麵的厚度約為10µm。


2.激光清洗的方(fāng)法與特點

激光清洗的方法主要有5種:激(jī)光幹洗法、激光+惰性氣體輔助法、激光+液(yè)膜輔助法(fǎ)、透明物質的激(jī)光背射清洗(xǐ)法和激(jī)光+化學方法複合法。

(1)激光幹洗法:即采用脈衝激光直接輻(fú)射去汙。這是使用最為廣泛的激光(guāng)清洗方法(fǎ),它(tā)不(bú)需要清潔液或其他化學溶液,不會導致二次汙染,而且潔淨(jìng)度遠遠高於化學清洗方法。

(2)激(jī)光+惰性(xìng)氣體輔助法:即激光輻射的同時,用(yòng)惰性氣體吹向工件表麵,當汙物從(cóng)表麵剝離後,就被氣體吹離表麵,避免清(qīng)潔表麵再次汙染和氧化(huà);惰性氣體輔助清(qīng)洗方法可以進一步提高零件的表麵清潔程度。

(3)激光+液膜輔助法:即首先沉積或者塗覆一層液膜於待清洗(xǐ)的基體表麵,然後用激光使液膜發生爆炸式蒸發,達到去汙(wū)的目的。液膜物質主要由一些易蒸發(fā)的特殊物質組成,它可以起到降(jiàng)低激光能量,提高清洗效率的作(zuò)用。

(4)透明物質的激光(guāng)背射清(qīng)洗法:對於玻璃、單晶矽等激光透明物(wù)質而言,將激光從背麵透過清洗表麵物質,此種激光(guāng)清洗的(de)機理與前麵相同,但是激光清洗的效果往往比前者理想(xiǎng),所需要的能(néng)量也更低。

(5)激光+化學去汙(wū)組合法:用激光使汙物鬆散後,再用非腐蝕性的化(huà)學方法去汙。目前在工業生產中主要釆用前麵四種清洗方法,其中激光幹洗(xǐ)法(fǎ)和激(jī)光+液膜清洗方法用得最多;第五種方法僅見於藝術品的清洗保護中。

一般而言,激光清洗技術具有如下特點:

(1)清除物質和(hé)適用的基材範圍廣泛,從大的(de)塊狀(zhuàng)汙染物,如鏽、手印、油汙、油(yóu)漆等,到小(xiǎo)的微細顆粒,如(rú)灰塵和金屬超細顆粒等均可(kě)以采用此方法(fǎ)進行清洗,適用的基材包括碳(tàn)鋼、不鏽鋼、銅(tóng)等金屬及合金,單晶Si片、大理石、木板、紙張、陶瓷、玻璃與高分子材料等。

(2)利用被清洗物質(zhì)的(de)物理化學性能差別及其對(duì)激光波長與能量密度的清洗(xǐ)閾值不同(tóng),可以實現選擇性清洗。即在(zài)不損傷被清洗物質本體(tǐ)的前提下,將所希(xī)望(wàng)清洗的物質去掉。例如,在清洗(xǐ)古典油畫(huà)等文物時,就可以通過激光器波長與功率的選擇,隻去掉油畫表麵的汙垢,而不損傷油畫(huà)本身的油墨。

(3)激光清(qīng)洗過程屬非接觸(chù)性加工,可以進行(háng)遠距離操作(zuò),通過調(diào)控激光工(gōng)藝參數,可以在不損(sǔn)傷基(jī)材表麵的(de)基礎上,有效去除表麵汙染物;借助於現代化(huà)的手(shǒu)段,可以方便地實現自動化操作。利用光纖將激光引入汙染區,操作人員隻需遠距離遙控操作,非常安全方便;通過設計(jì)相應的機(jī)械手,可對不(bú)同汙染部位進行選擇性的清洗。這(zhè)對於一(yī)些特殊的應用場合,如核反應堆蒸發冷凝管(guǎn)的除鏽等,具有重要意義。

(4)激(jī)光清洗過程無機械力作用,清洗表麵的清潔度遠遠高於化學(xué)清(qīng)洗工藝,因此在(zài)液晶、微電子元器件生產中可以發揮重要的作用。

(5)激光清洗設備可以長期使用,運行成本低。

(6)激光清洗技術是一種“綠色”清洗(xǐ)工藝,消除的廢料是固體粉末狀,體(tǐ)積小,易於存放,對環境基本上不造成汙染(rǎn),等等。


3.激光清洗的應(yīng)用

激光清洗技術(shù)在近(jìn)10年來得(dé)到(dào)了飛(fēi)速的發展,它不僅是傳統清洗技術的補充和(hé)延(yán)伸,而且它以自身的許多特點在許多領域中逐步取代傳統(tǒng)清洗工藝(yì),特別是不產生消耗臭氧層物質(ODS),應用前景十分廣闊。目前,激光清洗的應用主要集中在以下幾個方麵。

(1)激光清洗精密元器件的表麵顆粒物

在(zài)微電子製造工藝中,微電路襯底表麵的清潔度是決定產品質量(liàng)的關鍵,因為微米級的(de)個別外來(lái)微粒都可能導致電路失效,使元件的成品率下降。基片(piàn)表麵殘存的顆粒主要為金(jīn)屬碎片、光(guāng)致抗蝕劑屑、金屬離子、有機薄(báo)膜(mó)碎片等,顆粒的直徑範圍為50nm〜80Pm。研究結果表明(míng),采用激光清洗(xǐ)技術清(qīng)除這些微粒物,清洗效果(guǒ)比采用超聲波振動清洗的效果更(gèng)加好。現在,采用激光清洗微(wēi)小顆粒,最小尺寸已經達到50nm,可以滿(mǎn)足超大規模集成電(diàn)路的要求,該技術現在已經(jīng)在(zài)工業中得到應用(yòng)。類似的成果(guǒ)同樣(yàng)可以應用於製(zhì)備超光滑的表麵光(guāng)學元(yuán)件中。如鍍有(yǒu)反射膜的光學(xué)基片上(shàng)殘留有微小雜質時,會使光產生(shēng)散射,並幹(gàn)擾周圍的入射光和反射光。采用激光(guāng)輔助清洗技術則可(kě)以有效地除去反(fǎn)射鏡表麵殘留的極細微汙染(rǎn)雜質,保證光學元件的(de)質量。

(2)激光除鏽

由於暴露(lù)在大(dà)氣環境中,橋梁、電視發射塔、高壓輸電線路的鐵架等高架建築物的表層很容易鏽蝕,影響了建築物的(de)外在(zài)美觀,如果不及時加(jiā)以處(chù)理還很容易失效,造(zào)成(chéng)突發事故(gù)。由於此類建築物非常龐大,采用常規清洗(xǐ)方法進行維護非常不便(biàn),而采用非接觸式(shì)的激光清洗技術對鏽蝕的表麵進行清洗,不僅能(néng)使金屬表麵發生(shēng)氧化的鏽蝕層迅(xùn)速熔化蒸發,而且可以在金屬構(gòu)件(jiàn)表麵形成一層幾微米厚的金屬(shǔ)熔凝層,它具有致密的組織,良好的耐腐蝕性,可以防止金屬進一步鏽蝕(shí)。圖4-28所示為鋼件表麵鐵鏽層激光

清洗前後(hòu)的形貌(mào),可見激光清洗後鏽層不僅全部去掉,還形成(chéng)了(le)一層(céng)熔凝層。電(diàn)化學分析測試結果表明,激光清洗後鋼件表向的耐蝕性有一定程度的提高。現在,還有人在嚐試釆用(yòng)激光除(chú)鏽作為熱噴(pēn)塗技術的預清洗(xǐ)工藝,或者采用激光(guāng)清洗鍍鋅層等,都取得了一定的效(xiào)果。

圖4-28鋼件表麵(miàn)鐵鏽層激光清洗前後的形貌

圖片P211頁

(3)激光去除有機(塗)層

激光清洗技術在去除有機塗層如清除模具表麵的橡膠層、除漆和剝除導線皮等方麵具有獨到的(de)優勢,有關設備現在(zài)已經在工業中得到初步應用。采用激光清洗輪胎模具表麵的橡膠層(céng),模具無須從硫化機上卸下從而實現在線清洗(xǐ)作業(yè)。根據殘餘物的多少和膠料(liào)結構(gòu)的不同,完全清洗(xǐ)好一個模具的時間大大縮短。激光清洗的另一個(gè)優點是隻去掉橡膠層而不損傷模具,避免了常規噴砂清洗過程對模具的磨損(sǔn)。該技術已經在國外多家輪胎生產廠中得到應用。

用激光除去物體表麵漆(qī)層是一(yī)種先進的退漆工藝,在航空工業中和船舶工業中有很大的應用空間,如清(qīng)洗(xǐ)飛機的機體和大型船隻表(biǎo)麵的油漆。同傳統的溶劑清除和噴砂(shā)法相比,激光(guāng)除(chú)漆清潔速度快(kuài),不會造成環境汙染,能除掉(diào)不規則表麵上的漆層(céng)。一般多(duō)用CO₂激光除漆,或用光纖傳送固體激光進行遠程激光除漆。例如,采用脈衝CO₂激(jī)光器來燒(shāo)蝕漆層,可(kě)以將0.005mm厚的漆層汽化而基體仍保持(chí)冷態,不受損傷(shāng)。這種激光在數小時內可以將厚度1mm、麵積36m²的漆層剝離,並有真空係統及過濾器對廢渣進行處理,成本低。

在精(jīng)密電子器件的加工中,采用激光來除去金屬導體上覆(fù)蓋的有(yǒu)機絕緣材料,如激光剝除導線皮和去除有機薄膜等很有必要。在微電子的製造工藝中,許多組件加工要求精確地從導線的一個或(huò)幾個位置除去絕緣層,要去掉的材料通常是聚酰亞胺、聚四氟乙(yǐ)烯之類的有機材料(liào),在導線(xiàn)很細的情況下,用傳統的方法無法完成。激光剝線能完全除去導線周圍的絕(jué)緣層,而導(dǎo)線本(běn)身和(hé)其餘的絕緣層無燒灼、變形或掉色,並(bìng)且不留下碎片(piàn)。在微電子工業中,常用準分子激(jī)光進行(háng)除去薄膜等選擇性(xìng)加工。由於清(qīng)除介質材料的能量一般(bān)低於(yú)蝕除金(jīn)屬膜所需的能量,因此準分子激光能夠從金(jīn)屬基底上去掉聚合物膜、粘合劑(jì)或(huò)光刻膠,而不損傷金屬基底(dǐ)。

(4)激光清洗珍貴文(wén)物

由於文物和藝術品的(de)重要性和特殊地位,使激光清洗技術在此領域的應用超過在(zài)其他領域中的應用,充分地發揮岀了激光清(qīng)洗技(jì)術的獨特優(yōu)點。目前該技術在文物和藝(yì)術品(pǐn)領域的應用範圍非常廣泛,包括清洗古建築表麵、年代久遠的雕塑、珍貴的古錢幣和繪畫作品等。如意大利和奧地利兩國(guó)的專家(jiā)采用波長為1064nm,脈衝寬度小於10nm,激光光斑(bān)的直徑大於2.5mm,能量為1200mJ的固體激光器,應用光纖對激光進行傳輸,清洗了建於14世紀中葉的意大利Albertino聖壇,實現了圖像的遠程大麵積清洗,成功地除去了聖(shèng)像表麵上覆蓋的幾毫米厚的碳黑和灰泥(ní)硬殼層,清洗效(xiào)率約為1〜1.5m²/d,清(qīng)洗後恢(huī)複了圖像的古色舊(jiù)貌。


4.我國(guó)激光清洗技術與設備的應(yīng)用(yòng)現狀和發展(zhǎn)趨勢

綜(zōng)上所述,激光清洗(xǐ)技術在工業(yè)產品、文化(huà)產品及建築(zhù)中有廣泛的應用前景。我國研究人員從20世紀90年代開始,從事激光清洗工藝研究(jiū)和係統設備的開發,在激光除鏽、激光清洗橡膠輪胎模具和油漆、激光清洗顆粒物等方麵積累了相當的工作經驗,在此基礎(chǔ)上也開發了部分(fèn)激光清洗設備。但是(shì),當前我國激光清洗技術在工業(yè)產品和文化產品中的真正實際應(yīng)用還(hái)沒有起(qǐ)步,除了設(shè)備適應性、價格因素外,最主要的原因還在於宣(xuān)傳的力度(dù)不夠,企業對(duì)該技術的認識程度有限。

隨著激光清洗技術與設備發展的不斷深入,現有的成熟應(yīng)用技術(shù)將會在我國得到推廣應用,例(lì)如我國飛機、艦船維護時表麵油漆(qī)、電子行業中單晶矽板表麵顆粒物的去除以及文物保護方麵的清洗等。另一方麵,現有的(de)激光清洗設備體積和重量偏大,清(qīng)洗效率偏低、激光清洗質量(liàng)評估係統的(de)自動(dòng)化程度低以及缺乏激光清洗工藝(yì)的數據庫等,仍然是製約激光清洗技術產業化進程的瓶頸。激光清洗係統正向低(dī)成本、便攜式、自動化方向發展,這也是決定激光清洗(xǐ)技術能否得以廣泛應用的關鍵所在。此外,激光清洗設備製造企業還應該與相關的應用單位(wèi)密切合作,聯合開發滿足特定需要的(de)新型清洗設備。


紫外線清洗

在石英、玻璃、陶瓷及矽片和(hé)帶有氧(yǎng)化膜(mó)的金屬等材料上的(de)有機汙(wū)垢物的去除常用到紫外線的清洗作(zuò)用(yòng)。下麵介紹紫外線的產生以及它的清洗(xǐ)作(zuò)用。


1.紫外(wài)線和它的作用

紫外線(xiàn)是一種波長(zhǎng)在(zài)可見光與X射線之間的光線(xiàn),是波長在100~400nm範圍的電磁波。通(tōng)常的光學玻璃可透過波長在350nm以上(shàng)的紫外(wài)線,水晶和(hé)石英玻璃能透過波長(zhǎng)更短一(yī)些的(de)紫外線。紫外線具有較高的能量,波長越短的(de)紫外線能量越高。一些物質的分子吸收(shōu)紫外線後會處於高能量的激發狀態,有解離或電離的傾向。

(1)紫外線引(yǐn)起有機物的分解:紫外線對(duì)微生物有很強的殺滅作用,因此在製備超(chāo)純(chún)水時要利用紫(zǐ)外線進行殺菌處理。當微生物中的有機物分子中的原子(zǐ),吸收波長在210〜296nm的紫外線後,會被激發進而引(yǐn)起有機物分子的分解(jiě)。研究結果表明,殺菌力最強的紫外線波長在265nm附近。同樣道理,紫外線(xiàn)可使有機性(xìng)汙垢分解去除。

(2)紫外線促進臭氧分子的生成:當空氣中(zhōng)的氧分子吸收240nm以下波長(zhǎng)的紫(zǐ)外線後會生成(chéng)臭氧分子。在生(shēng)成臭氧的同時也生成有強氧化力的激發狀態的氧(yǎng)氣分子。

(公式P213頁)

由於太陽光中含有大量紫外線,在通(tōng)過地球外層大氣圈時,具(jù)有高能量的短波紫外線(波長(zhǎng)240nm以下)與大氣中的氧氣反應,生(shēng)成臭氧而被大氣吸收,隻有能量較低的長波紫外線能透過大(dà)氣層,大氣臭氧層(céng)的形成保護了地球上的生命免受紫外線的傷害。因此,保護大氣臭氧層這個天然屏障對人類有著非常重(chóng)要的(de)意義。

由於紫外線既可使組成汙垢的有(yǒu)機物分子處於(yú)激發狀態,又(yòu)能產生臭氧這種具有強氧化力的物(wù)質,所(suǒ)以人們研究出利用紫外線一臭氧協同作用的清洗方法:紫外線一臭氧並用法(UV—O₃法),它是幹式清洗方法中重(chóng)要的一種。


2.紫(zǐ)外(wài)線一臭氧並(bìng)用清洗法(UV—O₃法(fǎ))

在這方麵科學家們做了許多(duō)研(yán)究。如R.R.Sowell在1974年做過一個實驗:把一片被巴西棕(zōng)櫚蠟汙染過的玻璃用三氯乙烯溶劑清洗,然後在實驗過程(chéng)中不斷(duàn)用紫外線對玻璃進行(háng)近距離照射,清洗之前,三氯乙烯在玻璃上的接觸角為30°,發現隨著照射紫(zǐ)外線時間的延長,接觸(chù)角(jiǎo)逐漸降低。12h後達到洗淨玻璃在理論上可以達到的最小接觸角(4°〜5°)。其實驗結果見圖4-29。

圖4-29紫外線一臭氧並用法清洗試驗

圖片P213頁

又如J.R.Vig等人在1976年利用圖4-30的實(shí)驗裝置對被皮脂汙(wū)染過的石英晶(jīng)片進行清洗實驗。

圖(tú)4-30裝置中的光源為低壓汞燈(dēng),燈外罩玻璃是(shì)用熔(róng)融石英玻璃(lí)製成的(以保證紫外線完全可以通(tōng)過)。裝置1中,低壓汞燈(dēng)發出的光90%是波(bō)長為253.7nm的紫外線,還有一定數量的波長為184.9nm的紫(zǐ)外線。裝置2中低壓(yā)汞燈發射出的184.9nm波長的紫外線被燈管玻璃吸收,隻能發射出253.7nm的紫外線,把這個(gè)低壓汞(gǒng)燈與一個放電產生臭氧的臭(chòu)氧發生器組合在一起。在距離汞燈為1cm處的輻照度為(wéi)1.6W•cm-²。被皮脂汙染過的石英晶片在清洗處理前(qián)後都用測定清潔度的裝置(蒸氣測試)進行測定,實驗結果見表4-10。

圖4-30紫外(wài)線(xiàn)一臭氧並用法實驗裝置

表4-10紫外線一臭氧法實驗

表格P214頁(yè)

實驗結果表明,波長253.7nm的紫外線能激發有機物汙垢的分子,而波長184.9nm的紫外線能激發氧氣生成臭(chòu)氧,並與紫外線發生協同作用,最(zuì)後使(shǐ)有機物汙垢分子分解(jiě)成揮發性小分子CO₂、H₂O和N₂等。

隻用臭氧和隻用253.7nm波長(zhǎng)的紫外線清洗去汙時,速度都很慢;而(ér)用(yòng)圖4-30裝置1中的253.7nm波長的(de)紫外線與能激發(fā)氧氣產生臭氧的184.9nm波長的紫外線去汙時(shí),以(yǐ)及(jí)用裝置2中的253.7nm波長的紫外線和臭氧發生器協同作用時,都會使清洗速度大大加快。

根據這些(xiē)實驗結果,人們目前已開發出有一定功率的實用型紫外線一臭氧並(bìng)用的清洗裝置。

但(dàn)使(shǐ)用紫外線一臭氧法清洗還存在一些(xiē)需要解決的(de)問(wèn)題。主要(yào)有以下幾點:

①汙垢中的無(wú)機成分或(huò)處理後的灰分會殘留在物體(tǐ)表麵(miàn),因此需要釆(biǎn)用相應的辦法進一步清除。

②處理時,當清洗對象表麵與照(zhào)射光源距離稍遠時,產生的會自動分解失去作用。

③這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表麵,對有(yǒu)立體結構的清洗對象不太適合,隻能清洗平麵(miàn)結構的(de)物體(tǐ)。

④由於需防止臭氧擴散對人體造成(chéng)損(sǔn)害,需要在密閉裝置中進行。

⑤由於臭氧是通過氧化反應去除汙垢的,所以容易被氧化的表(biǎo)麵不能用(yòng)這種方(fāng)法處理。

石英、玻璃、陶瓷、矽(guī)晶片以及帶(dài)有氧化膜的金屬等材料的平麵結(jié)構物品進行超(chāo)精密清洗處理適(shì)合用這種方法。特別是能透過(guò)紫外線的(de)石英以及半導體矽晶片集成線路(lù)表麵殘留的光致抗蝕膜(mó)等汙(wū)垢,用這種方法處理很合適。

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